Tower Semiconductor Ltd.【TSEM】 業績・財務データ NASDAQ

タワーセミコンダクター株式会社は専門のプロセス技術に主に焦点を当てた独立した半導体ファウンドリとして動作します。当社は、顧客の設計仕様に基づいて、集積回路(IC)の製造に焦点を当てています。当社は、主にサードパーティの設計に基づいて、その顧客のための半導体を製造しています。これは、150ミリメートルウエハー、0.35、0.18に0.35、0.50、0.55、0.60、0.80ミクロン以上のプロセス製造のジオメトリを提供しています。 0.16、0.13と200ミリメートルウエハー上の0.11ミクロン、および65ナノメートルと300ミリメートルウエハー上の45ナノメートル。また、設計支援と技術的なサービスを提供しています。同社のICは、家庭用電化製品、パーソナル・コンピュータ、通信、自動車産業、医療機器製品を含む市場での製品の範囲に組み込まれます。当社は米国、イスラエル、日本に製造拠点があります。

Tower Semiconductor Ltd.【TSEM】 業績・財務データ NASDAQ

タワーセミコンダクター株式会社は専門のプロセス技術に主に焦点を当てた独立した半導体ファウンドリとして動作します。当社は、顧客の設計仕様に基づいて、集積回路(IC)の製造に焦点を当てています。当社は、主にサードパーティの設計に基づいて、その顧客のための半導体を製造しています。これは、150ミリメートルウエハー、0.35、0.18に0.35、0.50、0.55、0.60、0.80ミクロン以上のプロセス製造のジオメトリを提供しています。 0.16、0.13と200ミリメートルウエハー上の0.11ミクロン、および65ナノメートルと300ミリメートルウエハー上の45ナノメートル。また、設計支援と技術的なサービスを提供しています。同社のICは、家庭用電化製品、パーソナル・コンピュータ、通信、自動車産業、医療機器製品を含む市場での製品の範囲に組み込まれます。当社は米国、イスラエル、日本に製造拠点があります。

Tower Semiconductor Ltd.の株主資本推移

(単位:百万円) 株主資本 前年比
2022年12月 1,891 +16.6%
2021年12月 1,622 +30.49%
2018年12月 1,242 +19.97%
2017年12月 1,036 +50.15%
2016年12月 690 +73.66%
2015年12月 397 +93.85%
2014年12月 204 +45.12%
2013年12月 141 -35.8%
2012年12月 220
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